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ArFレーザーを用いた半導体製造等に使用するフォトレジスト用ポリマー並びにモノマーに関する弊社所有の特許に関するお知らせ

2014年8月6日
お取引様 各位
株式会社ダイセル
有機合成カンパニー
ArFレーザーを用いた半導体製造等に使用するフォトレジスト用ポリマー並びに
モノマーに関する弊社所有の特許に関するお知らせ
平素より弊社製品のご購入並びにご使用についてご配慮賜り厚く御礼申し上げます。
さて、弊社は、ArFレーザーを用いた半導体製造等に使用するフォトレジスト用ポリマー並びにモノマーに関する以下の特許権(以下本件特許権等)を所有しております。

特許番号 登録日 発明の名称
1 特許第5243220号 2013年4月12日 酸感応性化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
2 特許第4210237号 2008年10月31日 フォトレジスト用化合物およびフォトレジスト用組成物
3 特許第3948795号 2007年4月27日 放射線感光材料及びそれを用いたパターン形成方法

今後とも弊社は、研究開発を続け、優れた機能を持つ製品をお客様にお届けしたいと考えております。
尚、弊社は知的財産を重視する会社としても活動を続けていきたいと考えております。弊社の特許発明を無断で実施されるような事態となった場合には、適切に権利行使を行ってまいりたいと考えております。
本件特許権等や製品に関するご質問がございましたら、下記の弊社連絡先までご連絡下さるようお願い申し上げます。

関連製品:(製品紹介リンク)レジストモノマーIAM、HMA、DHMA

弊社連絡先
株式会社ダイセル 総合研究所 知的財産センター
知的財産戦略グループ
佐藤 靖
Tel:079-274-4088

株式会社ダイセル 東京本社 有機合成カンパニー
化学品マーケティング部2部
前田 繁宏
Tel:03-6711-8211