用于光刻胶的聚合物

CELGRAPHY®

  • 用于制造最先进的半导体线路的ArF和EUV抗蚀剂的基础聚合物。
  • 我们可以处理丙烯酸、甲基丙烯酸和羟基苯乙烯类单体。
  • 精确控制聚合物的结构是可能的。
  • CELGRAPHY®是大赛璐的一个注册商标。
制品示例
各种单体构成的聚合物
半导体用光刻胶 Cellgraphy®