フォトレジスト用ポリマー

セルグラフィー®

  • 最先端の半導体回路製造に使用されるArF・EUVレジストのベースポリマーです。
  • アクリル・メタクリル系、ヒドロキシスチレン系に対応します。
  • ポリマー構造の精密制御が可能です。
  • セルグラフィー®は当社グループの登録商標です。
製品例
各種モノマーの共重合体
半導体用セルグラフィー®化学式