レジストポリマー
ダイセルのフォトレジスト材料1）は、各種モノマー（10種類以上の自社モノマーを含む）を組合せたオーダーメイドなポリマーです。異物2）が極めて少ないので、微細な電気回路を高い歩留まりで生産できるようになります。本材料は、最先端の半導体回路、フラットパネルディスプレイのカラーフィルターや電気絶縁膜やマイクロレンズの成型にも応用されています。
- フォトレジスト材料：写真の原理で露光と現像を経て電子回路のパターンを描くのに使用されるポリマー。露光で硬化するネガ型と現像液に溶解しやすくなるポジ型がある。
- 異物：金属や有機物からなる微粒子
- 半導体用
レジストポリマー - FPD用
レジストポリマー
半導体用レジストポリマー
セルグラフィー®
- 半導体のメモリー、ロジック回路の製造のために使用可能なArFレジスト用のベース樹脂です。
- レジストモノマー®を使用したメタクリル（又はアクリル）エステル系共重合ポリマーで、ポリマー構造の精密制御が可能です。
- 低メタル化、高純度化の管理が可能です。
- セルグラフィー®は当社グループの登録商標です。
- 受託製造のご要望にもお応え致します。
- 製品例
- 各種モノマーの共重合体
