レジストポリマー

ダイセルのフォトレジスト材料1)は、各種モノマー(10種類以上の自社モノマーを含む)を組合せたオーダーメイドなポリマーです。異物2)が極めて少ないので、微細な電気回路を高い歩留まりで生産できるようになります。本材料は、最先端の半導体回路、フラットパネルディスプレイのカラーフィルターや電気絶縁膜やマイクロレンズの成型にも応用されています。

  1. フォトレジスト材料:写真の原理で露光と現像を経て電子回路のパターンを描くのに使用されるポリマー。露光で硬化するネガ型と現像液に溶解しやすくなるポジ型がある。
  2. 異物:金属や有機物からなる微粒子

半導体用レジストポリマー
セルグラフィー®

  • 半導体のメモリー、ロジック回路の製造のために使用可能なArFレジスト用のベース樹脂です。
  • レジストモノマー®を使用したメタクリル(又はアクリル)エステル系共重合ポリマーで、ポリマー構造の精密制御が可能です。
  • 低メタル化、高純度化の管理が可能です。
  • セルグラフィー®は当社グループの登録商標です。
  • 受託製造のご要望にもお応え致します。
製品例
各種モノマーの共重合体
半導体用レジストポリマー セルグラフィー®化学式